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檢測儀器及其配件

MBE系統
  • 產品名稱:MBE系統
  • 產品描述:底法蘭采取一體成型工藝,保證源和基底的精度,蒸發源位置對準精度 <0.5mm,樣品最高溫度可達1600℃
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產品詳情

MBE是一種在高真空或超高真空環境下,將從蒸發源釋放出分子或原子,在目標樣品表面形成高純度薄膜的薄膜制備技術。  
MBE可在原子尺度上精確控制薄膜厚度和薄膜純度,廣泛應用于:金屬、半導體、化合物、有機物薄膜制備、分子自組裝等方面。  
亮點:  
☆底法蘭采取一體成型工藝,保證源和基底的精度,蒸發源位置對準精度 <0.5mm  
☆特殊的樣品加熱設計,樣品最高溫度可達1600℃  
☆分子泵,離子泵和鈦泵泵組合設計,保證極低的本底真空  
☆國際聯合設計、本土化總裝,方便滿足定制需求、快速交貨和技術的 技術服務。  
技術參數:  

本底真空<1 x 10-10 mbar
漏率<10-12 mbar·L·s-1
冷井冷卻方式水冷或液氮冷卻
烘烤溫度150℃
樣品溫度室溫至1600℃(選配制冷模塊可達-120℃至1600℃)
樣品尺寸多種樣品架可供選擇,可根據用戶需要單獨定制
蒸發源數目3 - 6個,或者根據用戶需要定制
蒸發源定位精度一體成型工藝,<0.5 mm
抽氣系統分子泵,離子泵和鈦泵
真空規安捷倫UHV-24離子規(或選配其他型號真空規)
四軸樣品臺參數X/Y方向:±10 mm,Z方向:100 mm,θ:±180°
可選程序控制模塊整體通過程序自動控制所有蒸發源
     配方與數據采用數據庫管理,可導入導出
     用戶實現2-3級管理

本底真空    <1x10-10mbar  
漏率    <10-12mbar·L·s-1  
冷井冷卻方式    水冷或液氮冷卻  
烘烤溫度    150℃  
樣品溫度    室溫至1600℃(選配制冷模塊可達-120℃至1600℃)  
樣品尺寸    多種樣品架可供選擇,可根據用戶需要單獨定制  
蒸發源數目    3-6個,或者根據用戶需要定制  
蒸發源定位精度    一體成型工藝,<0.5mm  
抽氣系統    分子泵,離子泵和鈦泵  
真空規    安捷倫UHV-24離子規(或選配其他型號真空規)  
四軸樣品臺參數    X/Y方向:±10mm,Z方向:100mm,θ:±180°  
可選程序控制模塊    整體通過程序自動控制所有蒸發源  
配方與數據采用數據庫管理,可導入導出  
用戶實現2-3級管理  
可定制部分:  
根據客戶需求定制真空腔體、樣品傳送系統等。  
可選配部件:  
反射式高能電子衍射儀(RHEED)、低能電子衍射儀(LEED)、俄歇電子能  
譜儀(AES)、紅外(比色)測溫儀、各種蒸發源、坩堝、程序控制模塊、膜厚儀、質譜儀等  


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