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檢測儀器及其配件

冷壁CVD生長設備
  • 產品名稱:冷壁CVD生長設備
  • 產品描述:背景氣壓低,雜質氣體干擾少;參數控制性好,實驗重現性高,可擴展性強,能耗低,產量高
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產品詳情

冷壁CVD生長設備是常州國成新材料科技有限公司針對現有石英管式爐CVD生長設備功耗大、控制性差、產量低等缺點開發出來的一款新型CVD生長設備。該設備不僅可以用于石墨烯生長,還可六角氮化硼等二維材料薄膜、MBE薄膜及復合薄膜生長。  
亮點:  
☆背景氣壓低,雜質氣體干擾少。  
☆參數控制性好,實驗重現性高。  
☆可擴展性強,可以定制原位金屬電極蒸鍍參雜等功能。  
☆能耗低。  
☆產量高,適用于工業化生產(大型冷壁CVD)。  
技術參數:  

 小型冷壁CVD中型冷壁CVD大型冷壁CVD
本底真空5 x 10-7 mbar5 x 10-7 mbar5 x 10-6 mbar
樣品尺寸1 cm × 1 cm10 cm × 10 cm40 cm × 320 cm
外漏率<10-12mbar?l?s-1<10-12mbar?l?s-1<10-10mbar?l?s-1
內漏率<10-11mbar?l?s-1<10-11mbar?l?s-1<10-10mbar?l?s-1
溫度范圍室溫~1100℃室溫~1100℃室溫~1100℃
樣品溫度均勻性1000℃時溫差在10℃以內1000℃時溫差在3℃以內1000℃時溫差在20℃以內
最快降溫速度5秒從1000℃降到800℃5秒從1000℃降到800℃240秒從1000℃降到800℃
溫度控制可選PID程序控制可選PID程序控制可選PID程序控制
進氣控制微漏閥或者程序控制微漏閥或者程序控制微漏閥或者程序控制



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